Cover von Patent- und Designrecht wird in neuem Tab geöffnet

Patent- und Designrecht

Textausgabe zum deutschen, europäischen und internationalen Patent-, Gebrauchsmuster- und DesignrechtR, Patentrecht, Arbeitnehmererfindungen, GebrauchsmusterR, DesignR
0 Bewertungen
Suche nach diesem Verfasser
Jahr: 2020
Verlag: München, dtb
Mediengruppe: BuchSachliteratur
verfügbar

Exemplare

ZweigstelleMediengruppeStandorteInteressenkreisStatusVorbestellungenFrist
Zweigstelle: Zeughaus Mediengruppe: BuchSachliteratur Standorte: B 403 Pat / OG Sachbibliothek Interessenkreis: Status: Verfügbar Vorbestellungen: 0 Frist:

Inhalt

Rechtsstand: Mai 2020
ArbeitnehmererfindungsG, Biomaterial-HinterlegungsVO, Europäisches PatentÜbK, GebrauchsmusterG, DesignG, G über intern. PatÜbk, Haager Abkommen (Hinterlegung), HalbleiterschutzG, PatentVO, PatentG, PatentkostenG, Pariser Verbandsübereinkunft, SortenschutzG, TRIPS

Bewertungen

0 Bewertungen
0 Bewertungen
0 Bewertungen
0 Bewertungen
0 Bewertungen

Details

Suche nach diesem Verfasser
Jahr: 2020
Verlag: München, dtb
opens in new tab
Systematik: Suche nach dieser Systematik B 403, B 310
Suche nach diesem Interessenskreis
ISBN: 978-3-423-53049-1
2. ISBN: 3-423-53049-9
Beschreibung: Sonderausgabe, 15. Auflage, Stand: 1. Mai 2020, XXXI, 876 Seiten
Schlagwortketten: Patentrecht / Design
Beteiligte Personen: Suche nach dieser Beteiligten Person Heinemann, Andreas [HerausgeberIn]
Sprache: Deutsch
Mediengruppe: BuchSachliteratur