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Patent- und Designrecht

Textausgabe zum deutschen, europäischen und internationalen Patent-, Gebrauchsmuster- und DesignrechtR, Patentrecht, Arbeitnehmererfindungen, GebrauchsmusterR, DesignR
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Jahr: 2020
Verlag: München, dtb
Reihe: Beck-Texte im dtv
Mediengruppe: BuchSachliteratur
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Zweigstelle: Zeughaus Mediengruppe: BuchSachliteratur Standorte: B 403 Pat / OG Sachbibliothek Interessenkreis: Status: Verfügbar Vorbestellungen: 0 Frist:

Inhalt

Rechtsstand: Mai 2020
ArbeitnehmererfindungsG, Biomaterial-HinterlegungsVO, Europäisches PatentÜbK, GebrauchsmusterG, DesignG, G über intern. PatÜbk, Haager Abkommen (Hinterlegung), HalbleiterschutzG, PatentVO, PatentG, PatentkostenG, Pariser Verbandsübereinkunft, SortenschutzG, TRIPS

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Details

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Jahr: 2020
Verlag: München, dtb
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Systematik: Suche nach dieser Systematik B 403, B 310
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ISBN: 978-3-423-53049-1
2. ISBN: 3-423-53049-9
Beschreibung: Sonderausgabe, 15. Auflage, Stand: 1. Mai 2020, XXXI, 876 Seiten
Reihe: Beck-Texte im dtv
Beteiligte Personen: Suche nach dieser Beteiligten Person Heinemann, Andreas [HerausgeberIn]
Sprache: Deutsch
Mediengruppe: BuchSachliteratur